製品概要

【半導体用フォトマスク】

フォトマスクはLSIなど集積回路の製造工程で使用される重要部材です。表面の遮光膜にごく微細な回路パターンをエッチングした透明なガラス板で、回路をシリコンウェハに焼き付けるときの原版になります。フォトマスク上のパターンをシリコンウェハ上に縮小露光することにより微細なパターンを形成します。

回路パターンデータを元に電子ビーム描画技術によってフォトマスク基板上にマスクパターンを形成し、その後エッチング・レジスト剥離・洗浄・測定・検査を経てフォトマスクが完成します。

トッパンは、1961年よりフォトマスクの製造を通じて半導体産業の発展を支えてきました。近年では、進展するLSIの微細化に対する位相シフトマスクや、次世代露光技術に対するフォトマスクの開発も進めています。

【露光プロセス】

フォトマスクの表面に形成された半導体の回路パターンは、紫外光によってシリコンウェハ表面のフォトレジスト(感光性樹脂)上に転写されます。
その際、パターンはステッパ(露光装置)の縮小レンズにより、通常4分の1サイズに縮小されます。

フォトマスクの用途(実績例)

■半導体用　■光導波路、光デバイス用　■MEMS用　■LED用　■マイクロレンズ用　■装置精度管理用　■アライナー用　■ステッパー用　■レジスト評価用　■解像度評価用　など

グローバル化が進む半導体市場にスピーディできめ細かいサービスを提供するために、全世界8カ所の製造ネットワークを備えています。トッパンは北米、欧州、アジア、日本に生産拠点を持つ世界で唯一のフォトマスクサプライヤーです。