フォトマスク標準仕様
データフォーマット
- MEBES
- JEOL
- MIC
- VSB
- Gerber
- GDS
- DXF
- DWG
- BMP
- 上記以外のフォーマットはご相談ください。
サイズ
ブランクスサイズ | 厚み | 材質 | 膜質 | 膜厚 | 描画可能エリア |
---|---|---|---|---|---|
152×152mm (6×6インチ) |
6.35mm (0.25インチ) |
Qz | Cr | 105nm | 146×146mm |
Qz | Cr | 73nm | 146×146mm | ||
Qz | MoSi (KrF-PSM) | (透過率6%@KrF) | 146×146mm | ||
Qz | MoSi (ArF-PSM) | (透過率6%@ArF) | 146×146mm | ||
3.05mm (0.12インチ) |
Qz | Cr | 105nm | 146×146mm | |
2.30mm (0.09インチ) |
Qz | Cr | 105nm | 146×146mm | |
127×127mm (5×5インチ) |
4.60mm (0.18インチ) |
Qz | Cr | 105nm | 120×120mm |
2.30mm (0.09インチ) |
Qz | Cr | 105nm | 120×120mm |
標準規格
レーザー描画
項目 | 規格 |
---|---|
Qz材 | |
寸法精度 | 設計値 ± 0.025um |
トータルピッチ精度 | 設計値 ± 0.070um |
位置精度 | 設計値 ± 0.035um |
パターン欠陥 | 0.15um 0個 |
最小寸法 | Lineパターン 0.7um, Holeパターン 1.0um |
50kv電子ビーム描画
項目 | 規格 |
---|---|
Qz材 | |
寸法精度 | 設計値 ± 0.015um |
トータルピッチ精度 | 設計値 ± 0.050um |
位置精度 | 設計値 ± 0.025um |
パターン欠陥 | 0.10um 0個 |
最小寸法 | Lineパターン 0.4um, Holeパターン 0.6um |
- 上記以外のフォーマットはご相談ください。