公司新闻:
Toppan Photomask凭借其最高水准的技术开发能力和客户服务,
支持全球半导体产业和电子产业的发展。

大家一直以来对Toppan Photomask Co., Ltd.(株式会社凸版光掩模)予以特别的理解和支持,对此我表示衷心感谢。
我们的优势是卓越的技术开发能力、各生产基地间的团队合作以及始终重视客户发展的企业文化。我们将从技术层面为客户提供支援,利用遍布全球的8个生产基地,实现优秀的QCD目标。通过这些努力,我们希望成为客户首选的合作伙伴,并且超越客户的期待。这就是我们存在的意义。
另外,本公司作为社会公共机构将履行企业所应承担的社会责任。我们将以公正、健全的事业活动为基础,促进有关保护地球环境和尊重人权的各项措施,承担作为世界企业一员的责任,实现可持续发展。
我们在尊重每一位员工的多样性、引进新工作模式的同时,还通过积极的人才投资和提升团队合作来创造一个聚集全球各地优秀人才、充满活力的职场环境。我坚信,通过汇集世界各地信息和广大员工的聪明才智,本公司在瞬息万变的半导体产业中推进稳健经营的同时,一定能够实现更广阔的发展。
我们将未来的IPO(首次公开发行股票)作为一个里程碑,在市场资金的支持下,持续对有望长期发展的半导体产业提供支援。尽管这是一个急剧变化的产业领域,但我们将倾听客户意见,促进客户成长,进而使我们自身也茁壮发展。
本公司将积极大胆地进行各种挑战并不断完善改进,持续创造新的价值,敬请各位多多指教与关照。

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2023/7/24Toppan Photomask搬迁总部以支持业务增长
创建一个身心愉快、增强全球竞争力和生产力的工作环境
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2023/7/10关于变更电子邮件网域名称的通知
Toppan Photomask集团将在电子邮件系统迁移后同步变更电子邮件网域名称。
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2023/1/23参展美国SPIE. AR/VR/MR 2023
Toppan Photomask将于1月30日至2月1日在旧金山举行的SPIE. AR/VR/MR上展出纳米压印模具(129号展位)
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2023/1/23运用纳米压印光刻技术制造超透镜
Toppan Photomask与EV Group共同撰写白皮书,概述运用纳米压印光刻技术制造超透镜的工艺
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2022/9/19加快推进纳米压印光刻技术在光电制造领域的应用
两家市场领导者开展推广和技术合作,通过结合各自优势,提供纳米压印光刻技术开发工具包,并实现大批量生产
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2022/4/1凸版印刷通过公司分拆成立半导体光掩模公司
在美国、欧洲和亚洲设有生产基地的“Toppan Photomask”正式启航
INTEGRAL参与投资,旨在作为一家独立企业实体实现进一步的增长并强化竞争力,持续支持半导体产业的发展
光掩模用于在玻璃基板的遮光膜上形成非常微细的电路图案,是将复杂的半导体器件的电路刻画到硅晶圆上时的原版。除了用于制造半导体器件的光掩模外,本公司还开发并制造各种研发用途的玻璃掩模、硅模板掩模、用于纳米压印的模具等。