硅模板掩模/用于纳米压印的模具

硅模板掩模 (Silicon stencil mask)

シリコンステンシルマスク

硅模板掩模(Silicon stencil mask)是为了形成图案而加工了纳米级贯通开口的电子束光刻(EB光刻:Electron Beam Lithography)用光掩模。
EB光刻技术作为取代以往光刻工艺的技术,在半导体行业开展研究。
凸版印刷将微细加工技术作为核心技术推进模板掩模的开发,创建供货体制。

  • 【电子束复刻机与模板掩模】

  • 局部放大图

用于纳米压印的模具

纳米压印光刻

纳米压印是一种微细加工技术,采用被称为模具的模板与基板夹住树脂并使其固化,可复刻数十纳米单位的图案。由于工序简便,因此作为廉价、再现性良好地大量制造微细结构体的技术受到期待。
凸版应用通过半导体用光掩模事业积累的光刻技术,开发、制造高精度的纳米压印用模具。

压印方式

纳米压印大致分为“UV方式”和“热方式”两种。

UV纳米压印方式

这种方式将模具上的图案按压在UV固化性树脂上,然后照射紫外线使树脂固化复制图案。由于可在常温下作业,因此具有图案再现精度高的特点。

热纳米压印方式

这种方式在强压力下将模具上的图案按压在热塑性树脂上,然后加热及冷却复制图案。如果是受热软化的材料,可以对各种产品直接加工。

模具的種類

石英模具

主要用于UV纳米压印方式的模具。因为使用与半导体用光掩模相同的石英材料,所以刚性和平坦性高是其特点。
因为采用了半导体用光掩模制造工艺,所以可实现数十纳米程度的高精细图案。另外,凸版还开发、制造具有多段结构体的模具。

  • 高精细图案示例
  • 多段结构图案示例

硅模具

主要用于热纳米压印方式的模具。用电子束在硅基材上涂布的感光性树脂上描绘图案,然后采用干蚀刻法下挖。
因为采用了基于石英模具制作工序的工艺,因此可以制作高精细图案。另外,凸版正在开发具有较高长宽比图案的硅模具。

  • 硅模具
  • 高长宽比图案示例

图案形状示例

凸版公司提供满足客户需求的模具,拥有丰富的业绩。
此外,本公司还开展3D结构图案的开发等致力于研发工作。
欢迎随时洽询您所需要的图案形状等。

纳米压印用评估的标准模具

本公司备有用于评估的标准模具,能够以较为低廉的价格提供样品。
请运用于研发以及试制用途。

规格概要

    • 芯片尺寸   : □ 1英寸
    • 图案区域   : □ 18mm
    • 基板(硅)厚度:725um

标准模具样品系列

图案规格 线宽及间隔 孔洞
设计值 间距 200nm 400nm 1000nm 300nm 400nm 400nm
宽度 100nm 200nm 500nm 150nm 200nm 200nm
测量值 顶部宽度 110nm 220nm 510nm 195nm 240nm 141nm
底部宽度 140nm 240nm 540nm 164nm 210nm 178nm
高度 250nm 270nm 270nm 260nm 220nm 230nm

模具图案的断面照片