硅模板掩模/用于纳米压印的模具
硅模板掩模 (Silicon stencil mask)

硅模板掩模(Silicon stencil mask)是为了形成图案而加工了纳米级贯通开口的电子束光刻(EB光刻:Electron Beam Lithography)用光掩模。
EB光刻技术作为取代以往光刻工艺的技术,在半导体行业开展研究。
凸版印刷将微细加工技术作为核心技术推进模板掩模的开发,创建供货体制。
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【电子束复刻机与模板掩模】
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局部放大图
用于纳米压印的模具
纳米压印光刻

纳米压印是一种微细加工技术,采用被称为模具的模板与基板夹住树脂并使其固化,可复刻数十纳米单位的图案。由于工序简便,因此作为廉价、再现性良好地大量制造微细结构体的技术受到期待。
凸版应用通过半导体用光掩模事业积累的光刻技术,开发、制造高精度的纳米压印用模具。
压印方式
纳米压印大致分为“UV方式”和“热方式”两种。
UV纳米压印方式
这种方式将模具上的图案按压在UV固化性树脂上,然后照射紫外线使树脂固化复制图案。由于可在常温下作业,因此具有图案再现精度高的特点。
热纳米压印方式
这种方式在强压力下将模具上的图案按压在热塑性树脂上,然后加热及冷却复制图案。如果是受热软化的材料,可以对各种产品直接加工。
模具的種類
石英模具
主要用于UV纳米压印方式的模具。因为使用与半导体用光掩模相同的石英材料,所以刚性和平坦性高是其特点。
因为采用了半导体用光掩模制造工艺,所以可实现数十纳米程度的高精细图案。另外,凸版还开发、制造具有多段结构体的模具。
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高精细图案示例
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多段结构图案示例
硅模具
主要用于热纳米压印方式的模具。用电子束在硅基材上涂布的感光性树脂上描绘图案,然后采用干蚀刻法下挖。
因为采用了基于石英模具制作工序的工艺,因此可以制作高精细图案。另外,凸版正在开发具有较高长宽比图案的硅模具。
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硅模具
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高长宽比图案示例
图案形状示例
凸版公司提供满足客户需求的模具,拥有丰富的业绩。
此外,本公司还开展3D结构图案的开发等致力于研发工作。
欢迎随时洽询您所需要的图案形状等。

纳米压印用评估的标准模具
本公司备有用于评估的标准模具,能够以较为低廉的价格提供样品。
请运用于研发以及试制用途。
规格概要
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- 芯片尺寸 : □ 1英寸
- 图案区域 : □ 18mm
- 基板(硅)厚度:725um
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标准模具样品系列
图案规格 | 线宽及间隔 | 孔洞 | 柱 | ||||
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设计值 | 间距 | 200nm | 400nm | 1000nm | 300nm | 400nm | 400nm |
宽度 | 100nm | 200nm | 500nm | 150nm | 200nm | 200nm | |
测量值 | 顶部宽度 | 110nm | 220nm | 510nm | 195nm | 240nm | 141nm |
底部宽度 | 140nm | 240nm | 540nm | 164nm | 210nm | 178nm | |
高度 | 250nm | 270nm | 270nm | 260nm | 220nm | 230nm |
模具图案的断面照片
