硅模板掩模/用於納米壓印的模具
硅模板掩模(Silicon stencil mask)

硅模板掩模(Silicon stencil mask)是為了形成圖案而加工了納米級貫通開口的電子束光刻(EB光刻:Electron Beam Lithography)用光掩模。
EB光刻技術作為取代以往光刻工藝的技術,在半導體行業開展研究。
凸版印刷將微細加工技術作為核心技術推進模板掩模的開發,創建供貨體制。
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【電子束復刻機與模板掩模】
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局部放大圖
用於納米壓印的模具
納米壓印光刻

納米壓印是一種微細加工技術,採用被稱為模具的模板與基板夾住樹脂並使其固化,可復刻數十納米單位的圖案。由於工序簡便,因此作為廉價、再現性良好地大量製造微細結構體的技術受到期待。
凸版應用透過半導體用光掩模事業積累的光刻技術,開發、製造高精度的納米壓印用模具。
壓印方式
納米壓印大致分為“UV方式”和“熱方式”兩種。
UV納米壓印方式
這種方式將模具上的圖案按壓在UV固化性樹脂上,然後照射紫外線使樹脂固化複製圖案。由於可在常溫下作業,因此具有圖案再現精度高的特點。
熱納米壓印方式
這種方式在強壓力下將模具上的圖案按壓在熱塑性樹脂上,然後加熱及冷卻複製圖案。如果是受熱軟化的材料,可以對各種產品直接加工。
模具的種類
石英模具
主要用於UV納米壓印方式的模具。因為使用與半導體用光掩模相同的石英材料,所以剛性和平坦性高是其特點。
因為採用了半導體用光掩模製造工藝,所以可實現數十納米程度的高精細圖案。另外,凸版還開發、製造具有多段結構體的模具。
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高精細圖案示例
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多段結構圖案示例
硅模具
主要用於熱納米壓印方式的模具。用電子束在硅基材上塗布的感光性樹脂上描繪圖案,然後採用乾蝕刻法下挖。
因為採用了基於石英模具製作工序的工藝,因此可以製作高精細圖案。另外,凸版正在開發具有較高長寬比圖案的硅模具。
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硅模具
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高長寬比圖案示例
納米壓印的總體解決方案服務
凸版提供從光學設計、模擬到主模具製作、最終產品量產化的納米壓印的總體解決方案服務。

納米壓印用於評估的硅模具
本公司備有用於評估的標準模具,能夠以較為低廉的價格提供樣品。
請運用於研發以及試製用途。
規格概要
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- 芯片尺寸 : □ 1英寸
- 圖案區域 : □ 18mm
- 基板(硅)厚度:725um
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標準模具樣品系列
圖案規格 | 線寬及間隔 | 孔洞 | 柱 | ||||
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設計值 | 間距 | 200nm | 400nm | 1000nm | 300nm | 400nm | 400nm |
寬度 | 100nm | 200nm | 500nm | 150nm | 200nm | 200nm | |
測量值 | 頂部寬度 | 110nm | 220nm | 510nm | 195nm | 240nm | 141nm |
底部寬度 | 140nm | 240nm | 540nm | 164nm | 210nm | 178nm | |
高度 | 250nm | 270nm | 270nm | 260nm | 220nm | 230nm |
模具圖案的斷面照片
